Philips AZ1518/17 Manual do Utilizador

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Wechselwirkung von im NANOJET erzeugten
Teilchen mit Polymeren und biologischen Objekten
Inauguraldissertation zur Erlangung
des Doktorgrades der Naturwissenschaften
(Dr. rer. nat.)
vorgelegt beim Fachbereich Naturwissenschaften
der Universit
¨
at Kassel
Universit
¨
at des Landes Hessen
von Olexandr Rabinovych
aus der Ukraine
Kassel, Mai 2005
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Resumo do Conteúdo

Página 1

Wechselwirkung von im NANOJET erzeugtenTeilchen mit Polymeren und biologischen ObjektenInauguraldissertation zur Erlangungdes Doktorgrades der Naturwi

Página 2

4 EINLEITUNG UND AUFGABENSTELLUNGDie Liste von Mikro- und Nanostrukturierungsverfahren ließe sich weiter fortset-zen. Hier kann nur ein kurzer¨Uberbli

Página 3 - Inhaltsverzeichnis

94 KAPITEL 8. NUMERISCHE MODELLIERUNGParameter Name Umfangm modulo 1,2..a Multiplikator 0,1,...,m-1c Inkrement 0,1,...,m-1xn−1Startwert 0,1,...,m-1Tab

Página 4

8.3. PROGRAMMABLAUF ZUR SIMULATION 95lenl¨ange von 0.04 nm, was weit unterhalb der Abmessungen der verwendeten Aperturenliegt. Deswegen waren die Beug

Página 5

96 KAPITEL 8. NUMERISCHE MODELLIERUNGStartKonstanteneingabeAnfangsbedingungenRandbedingungent+ tDBewegungaller TeilchenBerechnungderWechselwirkungm

Página 6 - IV INHALTSVERZEICHNIS

8.4. STR¨OMUNGSBERECHNUNGEN 97verließ, wurde mit seiner Restgr¨oße auf die Gesamttransmission addiert.8.4 Str¨omungsberechnungenIn Abbildung 8.4 ist e

Página 7 - Strukturierungsverfahren

98 KAPITEL 8. NUMERISCHE MODELLIERUNGAbbildung 8.5: Vergleich der Ergebnisse bei der Verwendung der Gauss´schen- und dergleichm¨aßigen Verteilung f¨ur

Página 8 - 0µm 2µm 4µm 6µm 8µm

8.4. STR¨OMUNGSBERECHNUNGEN 99Abbildung 8.6: Vergleich der Simulationsergebnisse mit Literaturdaten. Quellen:Clausing [176]; Murphy [177]; Boulon [178

Página 9

100 KAPITEL 8. NUMERISCHE MODELLIERUNGAbbildung 8.7: Normierte Transmission als Funktion des Winkels (oben) und als Funk-tion des Abstandes zwischen R

Página 10

8.4. STR¨OMUNGSBERECHNUNGEN 101Die normierte Transmission (bezogen auf die Teilchenstromdichten am Einlass derR¨ohre) der Teilchen f¨ur verschiedene A

Página 11 - Aufgabenstellung

102 KAPITEL 8. NUMERISCHE MODELLIERUNGAbbildung 8.9: Verteilung der transmittierten Teilchen f¨ur die Kapillareliegt.8.5 Analyse simulierter und exper

Página 12

8.5. ANALYSE SIMULIERTER UND EXPERIMENTELLER DATEN 103abAbbildung 8.10: Winkelverteilung der transmittierten Teilchen f¨ur die Kapillare inkartesische

Página 13 - Grundlagen der Plasmaphysik

EINLEITUNG UND AUFGABENSTELLUNG 5downstreamgescanntesSubstratPlasmaKapillareKapillareaustretendeNeutralteilchen(Radikale)Lokalisierte,chemischeWechse

Página 14

104 KAPITEL 8. NUMERISCHE MODELLIERUNG8.6 DiskussionEs lag ein großes Interesse am Verhalten der atomaren Teilchen in der langen zylin-drischen Transp

Página 15 - 1.3 Die Debye-H

Kapitel 9ZusammenfassungIn der vorliegenden Arbeit wurden verschiedene Aspekte der Erzeugung von Radikalenmittels eines Plasmas, ihrem Transport im Do

Página 16

106 KAPITEL 9. ZUSAMMENFASSUNGNach Optimierung aller experimentellen Parameter wurde der Aufbau genutzt,um effizient Strukturierungen von Polymersubstra

Página 17 - 1.4 Die Plasmafrequenz

Literaturverzeichnis[1] I.W. Rangelow: Deep etching of silicon,Politechnica Breslau (1996), ISBN 83-7085-254-8[2] P.M. Petroff: Kinetics of Ordering an

Página 18

108 LITERATURVERZEICHNIS[12] J.A. Stroscio, D.M. Eigler: Atomic and molecular manipulation with the scanningtunneling microscope, Science 254 (1991),

Página 19 - Kapitel 2

LITERATURVERZEICHNIS 109[25] J. Voigt, B. Reinker, G. Mariotto, I. Shvets, P. G¨uthner, H. L¨oschner, I.W. Ran-gelow: Nanojet: Nanostructuring via a d

Página 20 - 2.2 Arten der Plasmaquellen

110 LITERATURVERZEICHNIS[39] M.W. Geis, N.N. Efremow, G.A. Lincoln: Hot jet etching of GaAs and Si,J. Vac. Sci. Technol. B4 (1986), 315[40] J.C. Alons

Página 21

LITERATURVERZEICHNIS 111[51] L. Sansonnens, A.A. Howling, Ch. Hollenstein, J.-L. Dorier, U. Kroll: The role ofmetastable atoms in argon-diluted silane

Página 22

112 LITERATURVERZEICHNIS[64] K. Ninomiya, K. Suzuki, S. Nishimatsu, O. Okada: Role of sulfur atoms in micro-wave plasma etching of silicon, J. Appl. P

Página 23 - 2.4.1 Experimenteller Aufbau

LITERATURVERZEICHNIS 113[78] S.K. Park, D.J. Economou: A mathematical model for a plasma-assisted down-stream etching reactor, J. Appl. Phys. 66 (1989

Página 24 - ~10mbar

6 EINLEITUNG UND AUFGABENSTELLUNGEine wichtige Rolle spielte das Verst¨andnis der Verlustprozesse der atomaren Spe-zies im Plasma, Afterglow und Downs

Página 25 - bei 3000 Umdre

114 LITERATURVERZEICHNIS[90] K.R. Ryan, I.C. Plumb: Model for the etching of silicon in SF6/O2plasmas,Plasma Chem. Plasma Proc. 10 (1990), 207[91] J.M

Página 26 - Photoresist

LITERATURVERZEICHNIS 115[104] I.B. Goldberg: Measurements of fluorine-atom recombination an a nickel surfaceby electron paramagnetic resonance, J. Phys

Página 27

116 LITERATURVERZEICHNIS[118] A. Boyde, P. Echlin, IITRI/SEM (1973), 759[119] H. Moor: Die Gefrier-fixation lebender Zellen und ihre Anwendung in der E

Página 28

LITERATURVERZEICHNIS 117[134] E. Betzig, P.L. Finn, J.S. Weiner: Combined shear force and near-field scanningoptical microscopy, Appl. Phys. Lett. 60 (

Página 29

118 LITERATURVERZEICHNIS[146] D. Mahaffey, M. Moore, F. Brodsky, R. Anderson: Coat proteins isolated fromclathrin coated vesicles can assemble into coa

Página 30

LITERATURVERZEICHNIS 119[158] E. Sossna: Herstellung von spannungsoptimierten Silizium-Membranen durch denelektrochemischen¨Atzstopp an pn-¨Uberg¨ange

Página 31

120 LITERATURVERZEICHNIS[172] W. Steckelmacher, R. Strong, M. W. Lucas: A simple atomic or molecular beamas target for ion-atom collision studies , J.

Página 32

Liste der Ver¨offentlichungenVer¨offentlichungenO. Rabinovych, R. Pedrak, I.W. Rangelow, H. Ruehling and M. Maniak: NANOJETas a chemical scalpel for acc

Página 33

KonferenzteilnahmenO. Rabinovych, I.W. Rangelow : NANOJET als chemisches Nanoskalpell ,Vollversammlung des ´Kompetenzzentrums Nanoanalytik´ 2003, M¨un

Página 34

DanksagungIch danke Herrn Prof. Dr. R. Kassing f¨ur die interessante Themenstellung und die gutewissenschaftliche Betreuung dieser Arbeit.Mein Dank gi

Página 35 - P -Staudruck

Kapitel 1Grundlagen der PlasmaphysikIn diesem Kapitel wird zun¨achst eine Definition eines Plasmas gegeben. Außerdemwerden die wichtigsten charakterist

Página 36

LebenslaufVorname, Name Olexandr RabinovychGeburtstag, Geburtsort 12. Juni 1977, Erewan, ArmenienFamilienstand ledigStaatsangeh¨origkeit Ukrainisch198

Página 37 - 2.6 Diskussion

Erkl¨arungHiermit versichere ich, dass ich die vorliegende Dissertation selbst¨andig und ohne uner-laubte Hilfe angefertigt und andere als die in der

Página 38

8 KAPITEL 1. GRUNDLAGEN DER PLASMAPHYSIKAbbildung 1.1: Elektronendichte und Elektronentemperatur f¨ur verschiedene Plas-men [31].eindimensionales Prob

Página 39 - Teilchen

1.3. DIE DEBYE-H¨UCKEL L¨ANGE 9Neutralteilchen Ionen ElektronenmN= (Z + N) · 1.67 · 10−27kg mI≈ mNme= 9.1 · 10−31kgTN=293K=1/40 eV TI=500K=0.04 eV Te=

Página 40 - 3.1.2 Oberfl

10 KAPITEL 1. GRUNDLAGEN DER PLASMAPHYSIKDie Ladung q induziert in ihrer Umgebung also eine Ladungsdichteρ(r) = enI(r) − ene(r) ≈ −2e2n0kBTVD(r) , (1.

Página 41

1.4. DIE PLASMAFREQUENZ 11Abbildung 1.2: Debye-Potential VDeiner Punktladung q im Plasma und ihr Coloumb-Potential VCim Vakkuum [26].1.4 Die Plasmafre

Página 42 - 3.1.4 Negative Sauerstoffionen

12 KAPITEL 1. GRUNDLAGEN DER PLASMAPHYSIKDas Feld E verursacht eine Kraft F = −eE, die die Elektronen entgegen ihrer Verschie-bung beschleunigt. Darau

Página 43 - Sauerstoffs

Kapitel 2Erzeugung der reaktiven TeilchenZur Zeit sind viele Verfahren bekannt, um chemisch reaktive Teilchen zu erzeugen. Ga-se oder Stoffe, die das g

Página 44

F¨ur meine Eltern

Página 45 - 3.2.1 Ionen

14 KAPITEL 2. ERZEUGUNG DER REAKTIVEN TEILCHENstr¨omendes Afterglow, in dem die aktiven Spezies zum Reaktionsgebiet transportiertwerden. Aktive Spezie

Página 46 - 3.2.2 Plasmastrahlung

2.2. ARTEN DER PLASMAQUELLEN 15mit. Es liegt ein Bogenplasma vor. Moderne Anwendungen solcher Plasmen sind diegleißend hellen Scheinwerfer von Oberkla

Página 47

16 KAPITEL 2. ERZEUGUNG DER REAKTIVEN TEILCHENEffizienz bei der Erzeugung angeregter Spezies aufweisen [53, 54, 55, 56, 57].2.3 Die Plasmaquelle des NAN

Página 48

2.4. PARAMETEROPTIMIERUNG IN DER PLASMAQUELLE 17Luftk¨uhlung den Vorteil ausbleib ender Ozon-Produktion durch die Plasma-UV- Strah-lung hat.2.4 Parame

Página 49

18 KAPITEL 2. ERZEUGUNG DER REAKTIVEN TEILCHENGaseinlass(O SF )2 , 6Plasma-kammer~4mbarTMPReaktionskammer~10mbar-5Bypass zurEvakuierungderPlasma

Página 50

2.4. PARAMETEROPTIMIERUNG IN DER PLASMAQUELLE 19Als Lieferant des atomaren Sauerstoffs kam O2als Tr¨agergas zum Einsatz, f¨ur ato-mares Fluor SF6. Dies

Página 51

20 KAPITEL 2. ERZEUGUNG DER REAKTIVEN TEILCHENSIPhotoresistdAbbildung 2.4: Durchge¨atztes Photoresist. (Weißer Bereich entspricht Si)Zuerst wurden Exp

Página 52 - 3.4 Diskussion

2.4. PARAMETEROPTIMIERUNG IN DER PLASMAQUELLE 21abAbbildung 2.5: Optimierung des Gasflusses von O2(a) und von SF6(b) zum Poly-mer¨atzen (Clariant AZ 15

Página 53 - Verlustprozesse der atomaren

22 KAPITEL 2. ERZEUGUNG DER REAKTIVEN TEILCHENfehlte die M¨oglichkeit, den Druck unabh¨angig vom Fluss einzustellen. Er ist¨uber denStr¨omungswidersta

Página 54 - 4.2.1 Sorptionsph

2.4. PARAMETEROPTIMIERUNG IN DER PLASMAQUELLE 23aabAbbildung 2.6: Abh¨angigkeit des Durchmessers vom durchge¨atzten Resist von der¨Atz-dauer f¨ur h=1.

Página 55

InhaltsverzeichnisEinleitung und Aufgabenstellung 11 Grundlagen der Plasmaphysik 71.1 Allgemeine Definition von Plasmen . . . . . . . . . . . . . . . .

Página 56 - Physisorption

24 KAPITEL 2. ERZEUGUNG DER REAKTIVEN TEILCHENabAbbildung 2.7: Abh¨angigkeit des Durchmessers vom durchge¨atzten Resist von der¨Atz-dauer f¨ur h=1.75

Página 57 - 4.2.2 Mechanismen der Oberfl

2.4. PARAMETEROPTIMIERUNG IN DER PLASMAQUELLE 25System Fsα(T ) T /K ma,O/kg ρpoly/(kg/m3) µpoly/(kg/mol)O-Poly 46 (24) 2.18 · 10−5324 2.657 · 10−26143

Página 58

26 KAPITEL 2. ERZEUGUNG DER REAKTIVEN TEILCHENabAbbildung 2.8: Abh¨angigkeit der minimalen Zeit td=0(a) und der¨Atzrate ² (b) vomAbstand h (Flusse: 30

Página 59 - 4.3.1 Erste Ordnung

2.4. PARAMETEROPTIMIERUNG IN DER PLASMAQUELLE 27Die Wandstromdichte ΦOder Radikale (Sauerstoffatome) ist gegeben durchΦO=nO· < υO>4, (2.4)mit nOd

Página 60 - 4.3.2 Zweite Ordnung

28 KAPITEL 2. ERZEUGUNG DER REAKTIVEN TEILCHENl¨asst sich das von einem Atom im Festk¨orper beanspruchte Volumen 4Vaaus der Dichteρpolyund der molaren

Página 61 - 4.4 Diskussion

2.5. BERECHNUNG DES DISSOZIATIONSGRADES 29hohen zum Polymer¨atzen notwendigen Fl¨ussen die Machzahl M = v/c (Str¨omungsge-schwindigkeit durch Schallge

Página 62

30 KAPITEL 2. ERZEUGUNG DER REAKTIVEN TEILCHENStaupunkt berechnet zu:ps= pa+ρv2a2. (2.16)Setzt man f¨ur die Massendichte ρ = mp/kT aus der idealen Gas

Página 63 - 5.1 Stand der Forschung

2.6. DISKUSSION 31Gas η/µPa·s Pe/mbar Ps/mbar DissoziationsgradO220.2 3.9 2.93 4.1%Tabelle 2.2: Dynamische Viskosit¨at des jeweiligen Prozessgases, Me

Página 64

32 KAPITEL 2. ERZEUGUNG DER REAKTIVEN TEILCHEN

Página 65 - 5.3.2 Entw

Kapitel 3Mehrzahl der plasmaerzeugtenTeilchenIn vorigen Kapiteln wurden die Ergebnisse ermittelt, in denen haupts¨achlich die ato-maren Teilchen des j

Página 66 - Kritischer

II INHALTSVERZEICHNIS3.3.1 Polymer¨atzen in reinem Sauerstoff-Plasma . . . . . . . . . . . . 433.3.2 Rolle der Beimischung von SF6beim Polymer¨atzen .

Página 67 - 5.4.1 Gefrierschock

34 KAPITEL 3. MEHRZAHL DER PLASMAERZEUGTEN TEILCHENReaktion Ratenkoeffizient, cm−3s−1e + O2→ 2O + e k1= 4.2 · 10−9exp³−5.6Te´e + O2→ O + O∗+ e k2= 5.0 ·

Página 68 - 5.4.2 Gefriertrocknung

3.1. SAUERSTOFFPLASMA 35eine exponierte Stelle ein, da sie einen der Hauptverlustmechanismen dieser Speziesdarstellen. Dabei sind zwei m¨ogliche Reakt

Página 69 - 5.6 Die chemische

36 KAPITEL 3. MEHRZAHL DER PLASMAERZEUGTEN TEILCHENder Literatur zu finden sind, nur bedingt aussagef¨ahig. Zudem¨andert sich der Ober-fl¨achenzustand w

Página 70

3.1. SAUERSTOFFPLASMA 37Reaktion Ratenkoeffizient, cm−3s−1e + O2→ O++ O−+ e k9= 7.1 · 10−11√Teexp³−17Te´e + O2→ O−+ O k10= 6.6 · 10−11exp³2.91Te−12.6T2e

Página 71 - Kapitel 6

38 KAPITEL 3. MEHRZAHL DER PLASMAERZEUGTEN TEILCHENDiffusionskonstante nach [109] wie folgt formulieren:DO=kBTg6 π η rO=381nOr2OvuutkBTg2πma,O. (3.3)Da

Página 72

3.2. IDENTIFIKATION VON DEN¨ATZENDEN TEILCHEN 39dann kann f¨ur ein zylinderf¨ormiges Plasmagef¨aß der L¨ange L mit dem Radius R dieDiffusionsl¨ange Λ n

Página 73

40 KAPITEL 3. MEHRZAHL DER PLASMAERZEUGTEN TEILCHENhier gemachte, eher vorsichtige Absch¨atzung best¨atigte sich durch einen einfachen Ver-such [16]:

Página 74 - 68KAPITEL 6. PR

3.2. IDENTIFIKATION VON DEN¨ATZENDEN TEILCHEN 41tromagnetische Plasmastrahlung in den mit NANOJET durchgef¨uhrten Experimentenkeinen Einfluss auf die P

Página 75 - Kapillare

42 KAPITEL 3. MEHRZAHL DER PLASMAERZEUGTEN TEILCHENschen, was nahezu rotationssymmetrische¨Atzstellen zeigten.Die durchgef¨uhrten Nanojet-Experimente

Página 76

3.3. WECHSELWIRKUNG ATOMARER SPEZIES MIT POLYMEREN 433.3.1 Polymer¨atzen in reinem Sauerstoff-PlasmaDas Polymer¨atzen mittels reinen Sauerstoff-Plasmen¨

Página 77 - 6.3 Erste Ergebnisse

INHALTSVERZEICHNIS III7 Strukturierung von Polymersubstraten 817.1 Aufbau . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 817.

Página 78

44 KAPITEL 3. MEHRZAHL DER PLASMAERZEUGTEN TEILCHENGes¨attigte Gruppen von Polymeren reagieren mittels ratenbestimmendem Abstra-hieren des Wasserstoffs

Página 79 - 6.5.1 Proteinnachweis in ge

3.3. WECHSELWIRKUNG ATOMARER SPEZIES MIT POLYMEREN 45N NOOOOOnN NOOOOOF FFnFCOF2; CO; NO2; NOO ON NOOOOOF FFF FFN NOOOOOF FFF FFF F F FF FFFFFFFFnn...

Página 80

46 KAPITEL 3. MEHRZAHL DER PLASMAERZEUGTEN TEILCHEN3.4 DiskussionIn diesem Kapitel wurden alle wichtigen plasmaerzeugten Teilchensorten pr¨asentiert.E

Página 81 - Offnen der Zellen

Kapitel 4Verlustprozesse der atomarenTeilchenIn diesem Kapitel geht es um die m¨oglichen Verlustprozesse der atomaren Neutralteil-chen F und O, unter

Página 82 - 6.6 Diskussion

48 KAPITEL 4. VERLUSTPROZESSE DER ATOMAREN TEILCHENReaktion Ratenkoeffizient rekomb. Atome/cm3s Ver¨offentl.O + O2+ O2→ O3+ O21.32 · 10−33cm6/s 9.5 · 101

Página 83 - 6.7 Untersuchungen an Knochen

4.2. WANDVERLUSTE 49sich erzielen, wenn zwei rotierende Molek¨ule konstante Dipole besitzen. Ein Dispersi-onseffekt der Anziehung wird durch die Wechse

Página 84

50 KAPITEL 4. VERLUSTPROZESSE DER ATOMAREN TEILCHENFestkörperChemisorptionEPotrchem1PhysisorptionEphysrphys2Erk T/2Brchem2chemrchem1rchem1rphys1Eaktk

Página 85 - 6.8 Diskussion

4.2. WANDVERLUSTE 51durch die Adsorptionsw¨arme bestimmt:τa= τ0eQa/RT. (4.3)Hier ist Qadie Adsorptionsw¨arme.Die Zeit, die ein Molek¨ul f¨ur den¨Uberg

Página 86 - 80KAPITEL 6. PR

52 KAPITEL 4. VERLUSTPROZESSE DER ATOMAREN TEILCHENGaskonstante und µ die molare Masse des betrachteten Teilchens. Durch die kleine-ren Raten des Bede

Página 87 - Polymersubstraten

4.3. VERLUSTE IN LANGEN ZYLINDRISCHEN R¨OHREN 534.3.1 Erste OrdnungDa die Wandverlustwahrscheinligkeit der reaktiven Teilchen γ an der Al2O3-Rohrwands

Página 88

IV INHALTSVERZEICHNIS

Página 89 - Wafer(1.5 m)m

54 KAPITEL 4. VERLUSTPROZESSE DER ATOMAREN TEILCHENnk= nk(z = 0) · expµ−vst2Dk(q1 + 4KkDk/v2st− 1)z¶. (4.14)Da 4KkDk/v2st¿ 1 (f¨ur O2∼ 10−15), kann ma

Página 90

4.4. DISKUSSION 55ist dies proportional zum Bedeckungsgrad. Nach [74] und Gleichung (4.5) ist der Be-deckungsgrad linear von Druck abh¨angig und damit

Página 91 - 7.3 Mikrostrukturierungen

56 KAPITEL 4. VERLUSTPROZESSE DER ATOMAREN TEILCHEN

Página 92 - Tiefe/nm

Kapitel 5¨Ubersicht¨uber diePr¨aparationsmethoden5.1 Stand der ForschungUm die innere Struktur von Zellen zu untersuchen, kommen licht- und elektronen

Página 93 - 7.4 Diskussion

58 KAPITEL 5.¨UBERSICHT¨UBER DIE PR¨APARATIONSMETHODENNormalerweise erfolgt die Entw¨asserung in einer aufsteigenden Alkohol- bzw. Ace-tonreihe. Danac

Página 94

5.3. TROCKNUNG DER BIOLOGISCHEN OBJEKTE 59Gefrierschock und Gefriertrocknung sind als Methoden zu w¨ahlen, wenn man che-mische Ver¨anderungen vermeide

Página 95 - Numerische Modellierung

60 KAPITEL 5.¨UBERSICHT¨UBER DIE PR¨APARATIONSMETHODENunter konntrollierten Bedingungen trocknen [123].5.3.3 Kritische-Punkt-TrocknungEs gibt aber meh

Página 96

5.4. GEFRIERSCHOCK UND GEFRIERTROCKNUNG 61f¨uhren zu kollabierenden Zellw¨anden [124]. Um dies zu vermeiden, wird Kritische-Punkt-Trocknung eingesetzt

Página 97 - 8.1.3 Kollisionen

62 KAPITEL 5.¨UBERSICHT¨UBER DIE PR¨APARATIONSMETHODENgegen¨uber dem fl¨ussigen Wasser eine sehr viel niedrigere thermische Leitf¨ahigkeit be-sitzt. Be

Página 98 - 8.1.4 Randbedingungen

5.6. DIE CHEMISCHE¨ATZUNG 63dick und das f¨uhrt im Bild zu Hell-Dunkel-Kontrasten [131].Heutzutage ist die Gefrierbruch-Elektronenmikroskopie ein geei

Página 99 - =f(cos( ))

EINLEITUNG UND AUFGABENSTELLUNG 1Einleitung und AufgabenstellungStrukturierungsverfahrenModerne¨Atztechniken erlauben es heutzutage dreidimensionale S

Página 100 - 8.2 Physikalische Annahmen

64 KAPITEL 5.¨UBERSICHT¨UBER DIE PR¨APARATIONSMETHODEN

Página 101

Kapitel 6Pr¨aparation biologischer Objektemittels NANOJETDieses Kapitel besch¨aftigt sich mit der Beschreibung des NANOJET-Verfahrens alseiner Methodi

Página 102

66KAPITEL 6. PR¨APARATION BIOLOGISCHER OBJEKTE MITTELS NANOJETAbbildung 6.1: Schematischer Aufbau des SNOMs nach [133].Die durch die mechanische Schwi

Página 103 - Substrat

6.2. EXPERIMENTELLER AUFBAU DES MIKROSKOPS 67Abbildung 6.2: Scherkraftdetektion mittels StimmgabelN¨ahert man die Spitze der Faser einer Oberfl¨ache bi

Página 104

68KAPITEL 6. PR¨APARATION BIOLOGISCHER OBJEKTE MITTELS NANOJET1-Phasenverschiebungzwischen AnregungundMessung,2- AmplitudeAbbildung 6.3: Typisc

Página 105

6.2. EXPERIMENTELLER AUFBAU DES MIKROSKOPS 69direkt auf die Eingangs¨offnung der jeweiligen Kapillare traf. Schema und Photogra-phien des Aufbaus sind

Página 106

70KAPITEL 6. PR¨APARATION BIOLOGISCHER OBJEKTE MITTELS NANOJETxyz-Piezomotoren SubstrathalterPiezotischSpiegelbildderKameraAustrittsröhreAustrittska

Página 107

6.3. ERSTE ERGEBNISSE 71die visuelle¨Uberwachung der Positionierung zu kontrollieren. Weiterhin sind in derAbbildung 6.5 noch die Vakuumbauteile zum T

Página 108

72KAPITEL 6. PR¨APARATION BIOLOGISCHER OBJEKTE MITTELS NANOJETdass eine pr¨azise, lokal beschr¨ankte Abtragung der Oberfl¨ache erfolgte, so dass be-nac

Página 109

6.5. IDENTIFIZIERUNG DER ORGANELLEN 73Wheatstone-BrückeAbbildung 6.7: Cantilever mit Piezoresistoren nach [141]den sind. Wird der Cantilever bis zum K

Página 110 - 8.6 Diskussion

2 EINLEITUNG UND AUFGABENSTELLUNG20µm15µm10µm5µm0µm0µm5µm10µm15µm20µm0nm100nm0µm 2µm 4µm 6µm 8µm0nm-20nm20nm40nmAbbildung 1: Polymerstrukturierung mit

Página 111 - Zusammenfassung

74KAPITEL 6. PR¨APARATION BIOLOGISCHER OBJEKTE MITTELS NANOJETacba3,5 mm3,5 mmAbbildung 6.8: REM-Aufnahme einer ge¨atzten Zelle (a), Vergr¨oßerung des

Página 112

6.5. IDENTIFIZIERUNG DER ORGANELLEN 75Organellen wird nur dann einen m¨aßigen Arbeitsaufwand verlangen, wenn die im vor-angehenden Abschnitt skizziert

Página 113 - Literaturverzeichnis

76KAPITEL 6. PR¨APARATION BIOLOGISCHER OBJEKTE MITTELS NANOJETeinem Eisenkern w¨urden sich besonders gut f¨ur die direkte Identifizierung im Elektro-ne

Página 114

6.7. UNTERSUCHUNGEN AN KNOCHEN 77die Ergebnisse zweier verschiedener¨Atzverfahren dargestellt. Abbildungen 6.9 (a) und(b) pr¨asentieren die Ergebnisse

Página 115

78KAPITEL 6. PR¨APARATION BIOLOGISCHER OBJEKTE MITTELS NANOJETNANOJET bietet hier die M¨oglichkeit, die organischen Komponenten des Knochensselektiv z

Página 116

6.8. DISKUSSION 79Abbildung 6.11 zeigt eine Knochenober߬ache die in Serie mit NANOJET behandeltwurde [155]. Es ist deutlich zu sehen wie durch die Be

Página 117

80KAPITEL 6. PR¨APARATION BIOLOGISCHER OBJEKTE MITTELS NANOJET

Página 118

Kapitel 7Strukturierung vonPolymersubstratenDie Ergebnisse aus den vorigen Kapiteln werden nun genutzt, um die Strukturierung derPolymersubstrate (Pho

Página 119

82 KAPITEL 7. STRUKTURIERUNG VON POLYMERSUBSTRATEN8µm200 mµDesignderKapillarenAustritts-röhre“Geformte”KapillarenSubstratRadikal-strömungPiezotischX

Página 120

7.2. HERSTELLUNG DER “GEFORMTEN” APPERTUREN 83Oxidmaske aufp-dotiertemWafer(1.5 m)mLitographieaufderVorderseitefürDiffusionOxidentfernungvon de

Página 121

EINLEITUNG UND AUFGABENSTELLUNG 3Abbildung 2: Schematische Darstellung ´Dip-Pen´-Strukturierungsverfahren [19]¨Ahnlich einer Schreibfeder funktioniert

Página 122

84 KAPITEL 7. STRUKTURIERUNG VON POLYMERSUBSTRATENBevor der Wafer zum Naßchemischen¨Atzen in KOH eingelegt wurde, wurde der pn-¨Ubergang in Sperrichtu

Página 123

7.3. MIKROSTRUKTURIERUNGEN 857.3 MikrostrukturierungenAbbildung 7.4 zeigt die Mikroskopieaufnahme einer Strukturierung, die mittels einer“geformten” K

Página 124

86 KAPITEL 7. STRUKTURIERUNG VON POLYMERSUBSTRATENIm n¨achsten Experiment wurde die Strukturierung des Photoresists mit einer Dickevon 220 nm durchgef

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7.4. DISKUSSION 877.4 DiskussionEins der Ziele dieser Arbeit war es, die Mikro- und Nanostrukturierung auf Polymer-schichten mittels einer “geformten”

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88 KAPITEL 7. STRUKTURIERUNG VON POLYMERSUBSTRATEN

Página 127 - Liste der Ver

Kapitel 8Numerische ModellierungDieses Kapitel besch¨aftigt sich mit der Fragestellung bez¨uglich der Teilchenstr¨omunginnerhalb der langen zylindrisc

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90 KAPITEL 8. NUMERISCHE MODELLIERUNGZeit und riesige maschinelle Ressourcen [165].Die MCM ist schon lange Zeit bekannt. Dar¨uberhinaus werden hier nu

Página 129 - Danksagung

8.1. DIE METHODE DER SIMULATION 918.1.3 KollisionenIn der DMCM wird das Wechselwirkunspotential zwischen Teilchen als das Potentialder nahen Wirkung d

Página 130 - Lebenslauf

92 KAPITEL 8. NUMERISCHE MODELLIERUNG8.1.4 RandbedingungenDie DMCM benutzt verschiedene Arten von Randbedingungen. Dazu geh¨oren spiegeln-de Oberfl¨ach

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8.1. DIE METHODE DER SIMULATION 93jEinjRefj jRef Ein=f(cos( ))BedeckungAbbildung 8.2: Diffuse Reflexion8.1.5 Erzeugung von ZufallszahlenDer Unterschied

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